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2019届高功率脉冲磁控溅射沉积薄膜技术与应用专题会议

来源:  未知   作者:  管理员   时间:  2019-08-01 12:22  点击:  

    

    2019728~30日,“2019届高功率脉冲磁控溅射沉积薄膜技术与应用专题会议”在兰州召开,通过会议交流、深入讨论及与国际知名企业对接,推动我国高功率脉冲磁控溅射沉积薄膜技术的发展。会议结束后,参会代表来我司参观交流,针对实验室仪器设备我司人员为各位代表进行详细的讲解。


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